HMDS真空烘箱，hmds涂膠烘箱技術(shù)參數(shù)：

電源電壓：AC 220V±10%/50Hz±2%

輸入功率：2200W

溫度范圍：RT+10℃-250℃

溫度分辨率：0.1℃

溫度波動度：±0.5℃

達(dá)到真空度：133Pa（1torr）

工作室尺寸（mm）：550*550*350（可定做）

有可自動吸取添加HMDS功能，智能型的程式設(shè)定，一鍵完成作業(yè)。

HMDS真空烘箱，hmds涂膠烘箱HMDS預(yù)處理系統(tǒng)特點(diǎn)：

1、預(yù)處理性能更好，由于是在經(jīng)過數(shù)次的氮?dú)庵脫Q再進(jìn)行的HMDS處理，所以不會有塵埃的干擾，再者，由于該系統(tǒng)是將"去水烘烤"和HMDS處理放在同一道工藝，同一個容器中進(jìn)行，晶片在容器里先經(jīng)過100℃-160℃的去水烘烤，再接著進(jìn)行HMDS處理，不需要從容器里傳出，而接觸到大氣，晶片吸收水分子的機(jī)會大大降低，所以有著更好的處理效果。

2、處理更加均勻,由于它是以蒸汽的形式涂布到晶片表面上，所以有液態(tài)涂布不可比擬更好的均勻性。

3、效率高,液態(tài)涂布是單片操作，而本系統(tǒng)一次可以處理多達(dá)4盒的晶片。

4、更加節(jié)省藥液,實(shí)踐證明，用液態(tài)HMDS涂布單片所用的藥液比用本系統(tǒng)處理4盒晶片所用藥液還多；

5、更加環(huán)保和安全，HMDS是有毒化學(xué)藥品，人吸入后會出現(xiàn)反胃、嘔吐、腹痛、呼吸道等，由于整個過程是在密閉的環(huán)境下完成的，所以不會有人接觸到藥液及其蒸汽，也就更加安全，它的尾氣是直接由機(jī)械泵抽到尾氣處理機(jī)，所以也不會對環(huán)境造成污染。    

6、低液報警裝置，當(dāng)HMDS液過低時發(fā)出報警及及時切斷工作起動功能；HMDS氣體密閉式自動吸取添加設(shè)計，真空箱密封性能佳，確保HMDS氣體無外漏顧慮。

7、可自動吸取HMDS功能，智能型的程式設(shè)定，一鍵完成作業(yè)。HMDS氣體密閉式自動吸取添加設(shè)計，真空箱密封性能佳，確保HMDS氣體無外漏顧慮。

8、可自動添加HMDS功能，智能型程式設(shè)定，將HMDS藥液定量添加至設(shè)備自帶儲液瓶中，無需人工添加，降低了工作人員和藥液接觸的幾率。

9、HMDS藥液泄漏報警功能，可安裝HMDS藥液泄漏測試系統(tǒng)，檢測到空氣中HMDS有害氣體時設(shè)備自動報警并且停止工作。

HMDS真空烘箱，hmds涂膠烘箱HMDS真空烘箱的原理：      

    HMDS預(yù)處理系統(tǒng)通過對烘箱預(yù)處理過程的工作溫度、處理時間、處理時保持時間等參數(shù)可以在硅片、基片表面均勻涂布一層HMDS，降低了HMDS處理后的硅片接觸角，降低了光刻膠的用量，提高光刻膠與硅片的黏附性。

HMDS預(yù)處理系統(tǒng)的必要性：

    在半導(dǎo)體生產(chǎn)工藝中，光刻是集成電路圖形轉(zhuǎn)移重要的一個工藝環(huán)節(jié)，涂膠質(zhì)量直接影響到光刻的質(zhì)量，涂膠工藝也顯得尤為重要。光刻涂膠工藝中絕大多數(shù)光刻膠是疏水的，而硅片表面的羥基和殘留的水分子是親水的，這造成光刻膠和硅片的黏合性較差，尤其是正膠，顯影時顯影液會侵入光刻膠和硅片的連接處，容易造成漂條、浮膠等，導(dǎo)致光刻圖形轉(zhuǎn)移的失敗，同時濕法腐蝕容易發(fā)生側(cè)向腐蝕。增黏劑HMDS(六甲基二硅氮烷)可以很好地改善這種狀況。將HMDS涂到硅片表面后，經(jīng)烘箱加溫可反應(yīng)生成以硅氧烷為主體的化合物。它成功地將硅片表面由親水變?yōu)槭杷涫杷珊芎玫嘏c光刻膠結(jié)合，起著偶聯(lián)劑的作用。

系統(tǒng)結(jié)構(gòu)：

整個系統(tǒng)由加熱、真空系統(tǒng)、充氮、加藥和控制模塊等5部分組成