高精度晶圓熱板，恒溫加熱臺(tái)技術(shù)指標(biāo)

加熱面積尺寸：160*160mm,220*220mm,230*520mm，可定制

溫度分辨率 ：0.1℃   

溫度波動(dòng)度：≤±0.5℃        

溫度均勻性：≤±0.5℃、1%℃

電源輸入：AC220V 10A         

加熱功率：800~3500W

控溫范圍：室溫--200、300/400/500℃   

熱板表面: 硬質(zhì)陽(yáng)極氧化鋁、陶瓷等制成

可選配功能：

支撐pin材料

邊緣支撐pin

N2吹掃，無(wú)氧化烘烤

烘焙距離可調(diào)模組

真空腔體

智能型控制系統(tǒng)

高精度晶圓熱板，恒溫加熱臺(tái)技術(shù)指標(biāo)用途

  用于固化光刻膠、晶圓烘烤、光刻工藝軟烘（前烘）、硬烘（堅(jiān)膜）、掩膜版烘烤、柔性電路板烘烤、固化環(huán)氧塑脂等，可用于顯微鏡下使用以及其它需要高精度控溫的場(chǎng)合等。

  適應(yīng)于半導(dǎo)體硅片，載玻片，晶片，基片，ITO導(dǎo)電玻璃等工藝，制版的表面涂覆后，薄膜烘干，固化，電路模塊的涂敷燒結(jié)和考核。熱板溫度穩(wěn)定度高，重復(fù)性好?？稍诠さV企業(yè)、科研、教育等單位作生產(chǎn)、科研、教學(xué)之用。

智能型HMDS真空系統(tǒng)的作用

在半導(dǎo)體生產(chǎn)工藝中，光刻是集成電路圖形轉(zhuǎn)移重要的一個(gè)工藝環(huán)節(jié)，涂膠質(zhì)量直接影響到光刻的質(zhì)量，涂膠工藝也顯得尤為重要。光刻涂膠工藝中絕大多數(shù)光刻膠是疏水的，而硅片表面的羥基和殘留的水分子是親水的，這造成光刻膠和硅片的黏合性較差，尤其是正膠，顯影時(shí)顯影液會(huì)侵入光刻膠和硅片的連接處，容易造成漂條、浮膠等，導(dǎo)致光刻圖形轉(zhuǎn)移的失敗，同時(shí)濕法腐蝕容易發(fā)生側(cè)向腐蝕。增黏劑HMDS(六甲基二硅氮烷)可以很好地改善這種狀況。將HMDS涂到半導(dǎo)體制造中硅片、砷化鎵、鈮酸鋰、玻璃、藍(lán)寶石、晶圓等材料表面后，經(jīng)烘箱加溫可反應(yīng)生成以硅氧烷為主體的化合物。它成功地將硅片表面由親水變?yōu)槭杷?，其疏水基可很好地與光刻膠結(jié)合，起著偶聯(lián)劑的作用

智能型HMDS真空系統(tǒng)技術(shù)參數(shù)

? 材質(zhì)：外箱采用304不銹鋼或優(yōu)質(zhì)冷軋板噴塑，內(nèi)箱采用316L醫(yī)用級(jí)不銹鋼

? 溫度范圍：RT+10-250℃

? 溫度分辨率：0.1℃

? 溫度波動(dòng)度：≤±0.5

? 真空度：≤133pa（1torr）

? 潔凈度：class 100，設(shè)備采用無(wú)塵材料，適用100級(jí)光刻間凈化環(huán)境

? 電源及總功率：AC 220V±10% / 50HZ /2.5KW    

? 控制儀表：人機(jī)界面

? 擱板層數(shù)：2層

? HMDS控制：可控制HMDS藥液的添加量

? 真空泵：旋片式油泵或無(wú)油泵

? 保護(hù)裝置：超溫保護(hù)，漏電保護(hù)，過(guò)熱保護(hù)等