Pi的合成工藝常用的為2步法第1步將二元酐和二元胺在低溫下縮聚得到聚酰胺酸PAA第2步通過化學亞胺化法或熱亞胺化法將PAA環(huán)化為Pl。

熱亞胺化又分為固相亞胺化和溶液亞胺化。第1種方式固相亞胺化常用于PI薄膜的制備即將PAA溶液澆鑄成膜后加熱進行亞胺化溶液亞胺化是在PAA溶液中加入共沸溶劑加熱回流通過共沸溶劑的蒸出帶出反應過程中產(chǎn)生的水促進反應進一步進行。室溫至150℃時，主要為氧元素、水分的脫除；150℃至320℃時，主要是薄膜內殘余溶劑的揮發(fā)，同時發(fā)生脫水環(huán)化。其中第二階段為反應的主要溫度區(qū)間，也是PAA結構向PI結構轉變的關鍵階段。更高的亞胺化溫度有利于薄膜內殘余溶劑的揮發(fā)及脫水環(huán)化反應的進行，能制得具有有序結構的PI原膜

PI烘箱，厭氧烘箱用途

用于半導體/電子/新材料/新能源等行業(yè)。BCB、PI、PBO膠固化，LCP新材料、鋰電池等產(chǎn)品熱處理。

PI烘箱，厭氧烘箱說明書

規(guī)格尺寸：90L/150L/210L/500L/自定義
材質：內腔采用SUS304/316不銹鋼；
真空度： 100Pa；
溫度范圍： RT+50～400℃；
溫度分辨率：0.1℃；

波動度：±0.5℃；

均勻性：±1.5%℃；

氧含量：20ppm

氮氣裝置：可調式流量計+減壓閥

電源電壓：380V 50HZ； 

真空泵：渦旋無油干泵

操作方式：手動或自動；

控制模式：人機界面+PLC；

數(shù)據(jù)記錄：腔內多點溫度檢測+記錄功能

降溫方式：快速降溫裝置

升溫方式：階梯式程序升溫

  無氧烘箱，真空無氧烘箱，無塵烘箱，HMDS烘箱，硅烷蒸鍍機，無塵無氧烘箱，氮氣烘箱，鼓風真空烘箱，超低溫試驗箱，快溫變試驗箱，恒溫恒濕試驗箱，高低溫沖擊試驗箱等設備，以及非標定制。---上海雋思儀器專業(yè)生產(chǎn)/服務！