MEMS系統(tǒng)

CVD薄膜；

光刻

用于光刻膠附著力的 HMDS 

作為聚合物和基材之間的粘合層

作為印章和聚合物材料之間的非常薄和保形的離型層；

噴墨

防止墨水積聚在噴嘴面板上，確保墨水流動不受限制；

生物MEMS

親水性和生物相容性CVD薄膜可用于改善潤濕性，或防止蛋白質吸收，或減少器件性能的“漂移"

微陣列芯片的硅烷/底物粘附：DNA、基因、蛋白質、抗體、組織；

光學和 AR/VR 應用

修改光學特性

創(chuàng)建納米壓印層或鈍化層；

圖像反轉

金屬剝離工藝，用于WLP、RDL和掩模制造操作中的無蝕刻工藝；

HMDS烘箱  圖像反轉系統(tǒng) 六甲基二硅氮烷涂膠機技術性能

材質：內箱采用316L級不銹鋼

工藝溫度：100-150℃

溫度分辨率：0.1℃

溫度波動度：≤±0.5

真空度：≤133pa（1torr）

操作界面：人機界面，一鍵作業(yè)

層數(shù):2層

HMDS控制:可控制HMDS藥液的添加量

圖像處理：圖像反轉

真空泵: 進口無油泵

保護裝置：緊急停止，HMDS藥液泄漏報&警提示，HMDS低液位報&警，超溫保護，漏電保護，過熱保護等